半導体・電子材料の高純度化を支える
三洋化成の低メタル化・高純度精製技術

化合物の構造・物性、不純物の種類や存在状態を分析し、それぞれに適した精製プロセスを設計。三洋化成が培ってきた精製技術を組み合わせることで、幅広い材料の低メタル化ニーズに応えます。

弊社では、最新のICP-MS（誘導結合プラズマ質量分析計）およびICP-OES（ICP-AES、誘導結合プラズマ発光分光分析装置）を運用しています。精製後の微量金属不純物を定量し、規格に基づいて管理できる体制を整備しています。
半導体・電子材料で関心の高いNa、K、Ca、Mg、Al、Fe、Cu、Ni、Cr、Znなどを含む35元素を対象とした評価が可能です。

評価可能な35元素

Ag、Al、As、B、Ba、Ca、Cd、Co、Cr、Cs、Cu、Fe、Ga、Ge、K、Li、Mg、Mn、Mo、Na、Ni、P、Pb、Rb、Sb、Se、Si、Sn、Sr、Ti、U、V、W、Zn、Zr 
※定量下限、精度、適用可能な測定法は、対象元素、試料組成、前処理、希釈倍率、装置・測定条件等によって異なります。

弊社は、高分子ポリマーから低分子モノマー、酸・アルカリを含有する各種配合物に至るまで、幅広い化学品の取扱実績を有しています。組成変化を最小限に抑えつつ精製するための知見・手法を蓄積しています。
まずは少量で低メタル化の可能性を確認し、分析結果をもとに条件を最適化。必要に応じて処理量を増やした検討へ展開します。